引言

      眾所周知，熱處理氣氛的精確測(cè)量都與熱處理部件的質(zhì)量和工藝有著密切的關(guān)系。有些熱處理氣氛條件的確定會(huì)進(jìn)行露點(diǎn)分析。這是因?yàn)椋藗儼l(fā)現(xiàn)溫度指標(biāo)對(duì)碳勢(shì)，因而對(duì)終產(chǎn)品質(zhì)量有相當(dāng)大的影響。

      由于中性氣氛的主要目的地是避免滲碳、脫碳、氫脆、氧化和炭黑生成等現(xiàn)象的有害作用，爐內(nèi)氣氛的分析項(xiàng)目一定遠(yuǎn)遠(yuǎn)不止水分含量。為了測(cè)量，一氧化碳、二氧化碳、氫氣、水、氮?dú)夂图淄檫@樣的成分，需要使用可靠而又精確的儀器來(lái)分析。如今，武漢華敏的氧探頭和便攜式滲碳校驗(yàn)儀都是備受歡迎的用以確定氣氛爐內(nèi)碳的分析儀器。


      疑問(wèn)

      在氣氛爐的分析和控制手段多年來(lái)不斷進(jìn)步的今天 ，為什么露點(diǎn)測(cè)量仍然被熱處理行業(yè)的特種氣體工藝?yán)锼褂茫吭蚴鞘裁矗?/span>

      “準(zhǔn)確的”露點(diǎn)測(cè)量在相當(dāng)大程度上取決于環(huán)境溫度，然而不同的地域位置存在著環(huán)境溫度波動(dòng)問(wèn)題，即使在短短的24小時(shí)內(nèi)相對(duì)溫度也會(huì)再現(xiàn)劇烈變化。

      而另一種，氧化鋯氧分析是一種基于微處理器的通用型儀器，以武漢華敏的氧化鋯氧分析系統(tǒng)為例，使用于密閉環(huán)境下，用于測(cè)定PPM級(jí)別的氧含量，如果工藝氣體供應(yīng)管路中出現(xiàn)大于5ppm的氧含量時(shí)，就將給出報(bào)警提醒。重點(diǎn)是，氧化鋯氧分析產(chǎn)生的信號(hào)不受溫度的影響。


      結(jié)果

      在對(duì)少量水蒸汽或氧的存在就很容易導(dǎo)致氧化的金屬部件進(jìn)行真空熱處理時(shí)，研究表明，露點(diǎn)不應(yīng)當(dāng)被作為獨(dú)立的氣體純度指標(biāo)。將武漢華敏的氧化鋯氧分析系統(tǒng)作為補(bǔ)充的質(zhì)量工具，能夠讓熱處理企業(yè)更可靠地保證，從而達(dá)到客戶的技術(shù)要求。