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保護(hù)氣氛退火控制解決方案

保護(hù)氣氛退火控制解決方案

由氣氛分析系統(tǒng)、過程控制系統(tǒng)和流量控制模塊組成的保護(hù)氣氛退火控制系統(tǒng),能提供先進(jìn)智能化的毫伏值或PF值控制,可為客戶提供退火工藝的全自動(dòng)控制系統(tǒng)解決方案。特別適用...

方案介紹

由氣氛分析系統(tǒng)、過程控制系統(tǒng)和流量控制模塊組成的保護(hù)氣氛退火控制系統(tǒng),能提供先進(jìn)智能化的毫伏值或PF值控制,可為客戶提供退火工藝的全自動(dòng)控制系統(tǒng)解決方案。特別適用于井式爐、罩式爐、STC爐等爐型。


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方案優(yōu)勢

氣氛分析模塊

專為退火爐設(shè)計(jì)的SPD低溫直插式氧探頭,采用特殊的氧化鋯陶瓷做敏感元件,在500℃以上即可顯示爐內(nèi)氧毫伏值,可幾乎適用于所有的退火氣氛

紅外分析模塊適用于吸熱式或放熱式氣氛的COCO2測量,并提供PF值的計(jì)算模塊

可選配一體式低溫氧探頭,用于排空階段爐內(nèi)氧含量的測量,節(jié)約N2使用量的同時(shí)縮短工藝時(shí)間,提高設(shè)備利用率

 

流量控制模塊

N2智能流量控制器

RX氣智能流量控制器

CH4C3H8智能流量控制器

 

過程控制模塊

基于MCGS觸摸屏開發(fā)的集監(jiān)視、控制和記錄為一體的退火通用控制器,能夠程序化地實(shí)現(xiàn)整個(gè)退火工藝的溫度-流量-PF值/毫伏值全自動(dòng)控制過程。

 

特點(diǎn)

精確的流量控制±2.5%F.S.

精確的PF值控制±5

可節(jié)約工藝氣體的消耗量


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